本書創(chuàng)新性地開展“雙線聯(lián)動(dòng)”和“雙維定位”特色分析，重點(diǎn)研究了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵核心技術(shù)的專利布局脈絡(luò)和重點(diǎn)申請人布局情況，研究內(nèi)容緊扣當(dāng)下產(chǎn)業(yè)急需和未來發(fā)展趨勢，不僅可以為現(xiàn)有科研工作提供有力的支撐，而且為未來的科研工作提供了有效的科研情報(bào)信息。本書是了解該行業(yè)技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀并預(yù)測未來走向、幫助企業(yè)做好專利預(yù)警的必備工具書。