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紋影與陰影技術:透明介質中的可視化紋影與陰影技術

紋影與陰影技術:透明介質中的可視化紋影與陰影技術

定  價:118 元

        

  • 作者:[美] 加里·塞特爾(G.S.Settles) 著,葉繼飛,文明,徐徐 等 譯
  • 出版時間:2018/8/1
  • ISBN:9787118115772
  • 出 版 社:國防工業(yè)出版社
  • 中圖法分類:O354 
  • 頁碼:338
  • 紙張:膠版紙
  • 版次:1
  • 開本:16開
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  《紋影與陰影技術:透明介質中的可視化紋影與陰影技術》回顧了紋影與陰影技術的發(fā)展歷史,闡述了相關的基本概念,從經典的Toepler紋影技術人手,引入典型的系統(tǒng)參數(shù)及其分析方法;介紹了,大視場與聚焦紋影方法,以及彩色紋影、立體紋影和紋影干涉等特種紋影技術;針對陰影技術進行了詳細介紹;介紹了直接、聚焦和特殊陰影成像技術;結合實際應用,介紹了紋影與陰影光學組件、系統(tǒng)構建和成像方法等具體實驗的實施;介紹了紋影與陰影技術在生產生活各個領域內的具體應用;對分光法、柵格刀口方法、圖像測速和定量陰影等定量評價方法進行了介紹;總結并展望了紋影與陰影技術發(fā)展的未來、
  《紋影與陰影技術:透明介質中的可視化紋影與陰影技術》可供從事流動顯示及其相關領域研究的科研和教學人員參考、
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